PROGRESS
78%
QUANTITY
500
scrap 0 · rework 0
ETA
14분
단계 완료까지
PRIORITY
NORMAL
고객 마감 영향
진행 Timeline
분 단위 · 최근 → 이전
다음 step 진행 중 NOW
12:14
ST-01 · 이주간 · progress 78%
사인오프
12:08
ST-02 · 이주간 · qty out 500 / scrap 0
CD 측정 — in spec
11:22
ST-02 · 박품질 · 24.05nm (target 24.0)
L01-Etch 진입
10:42
ST-02 · 이주간 · recipe ET-28-L02
L01-Etch 대기
10:18
ST-02 · EQ-002 가용 대기
스테이션 사인오프
10:08
ST-01 · 이주간 · parameters check OK
L01-Photo 진입
09:32
ST-01 · 이주간 · recipe PH-28-L01 적용
Lot 시작
09:14
ST-01 · 이주간 · Logic-A 라인 진입
적용 Recipe
ET-28-L02 v3
28nm Logic — Layer 1 Etch
RF Power
800W
800W
Pressure
50 mTorr
50 mTorr
Time
42 sec
42 sec
Gas Flow
Cl₂ 80sccm
Cl₂ 80sccm
품질 측정
CD (Critical Dimension)
24.05nm
SPEC 23.5–24.5
IN SPEC
Overlay
1.8nm
SPEC ≤ 3.0
IN SPEC
Particle
2ea
SPEC ≤ 5
PASS
사인오프 이력
이주간
10:08 · ST-01
이주간
12:08 · ST-02